- 產品信息
- 式樣
產品信息
特 點
●膜厚測量范圍65nm~92μm(換算為SiO2)
●最短曝光時間1ms~※根據規格
●由于是柔性纖維光學系統,容易組裝到半導體工藝裝置中
●可從上層遠程控制
●最適合于研磨中膜厚終點檢測
基本配置
裝置組裝示意圖
測量案例
適應過程示例
CMP工藝
蝕刻工藝
成膜工藝
等等
仕様
MCPD-9800仕様
MCPD-9800仕様
本公司的MCPD series,由于采用柔軟纖維的事,從In-Situ到內聯各種各樣的地方和用途的編入成為可能。測量原理為分光干涉方式,在實現高測量再現性的同時,還支持多層厚度測量。通過采用獨自算法,可以高速實時監控。...
產品信息
特 點
●膜厚測量范圍65nm~92μm(換算為SiO2)
●最短曝光時間1ms~※根據規格
●由于是柔性纖維光學系統,容易組裝到半導體工藝裝置中
●可從上層遠程控制
●最適合于研磨中膜厚終點檢測
基本配置
裝置組裝示意圖
測量案例
適應過程示例
CMP工藝
蝕刻工藝
成膜工藝
等等
仕様
MCPD-9800仕様
MCPD-9800仕様